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江门市惠和永晟纳米科技有限公司
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供应纳米级硅溶胶用于电子抛光蓝宝石CMP研磨抛光液精抛 |
硅溶胶在抛光中的应用
1.纳米二氧化硅抛光液是以硅溶胶为主要原料,经过特殊工艺生产的一种抛光产品,广泛用于多种材料表面的平坦化抛光,如电子产品的金属外壳、手机摄像头玻璃、 Home键、计算机硬盘盘片、硅晶片等表面的抛光加工。
2.纳米二氧化硅抛光液的抛光过程是在抛光机上实现的,在抛光过程中抛光垫和工件相对做旋转运动,抛光液(磨料)在旋转的抛光垫与工件之间流动,在一定压力、温度和转速作用下,发生化学机械抛光过程-简称CMP(Chemical Mechanical Polishing),因此抛光过程是在化学的和机械的综合作用下,使工件表面平整化(抛光)。
3.在抛光过程中,抛光液的主要作用是:
①抛光作用,通过研磨、腐蚀、吸附反应物来实现;
②润滑作用;
③冷却降温作用;
④冲洗排渣作用。 |
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